Science and Technology Production
Congress
Authorship
Ignacio E. dell'Erba
;
Silvana V. Asmussen
;
SCHROEDER, WALTER FABIAN
;
Claudia I. Vallo
Date
2013
Publishing House and Editing Place
X Simposio Argentino de Polímeros - SAP 2013
Summary
Information provided by the agent in
SIGEVA
La fotopolimerización por radicales libres requiere la presencia de una amina terciaria que actúa como agente reductor y suprime la inhibición por oxígeno de la reacción. Para evitar los problemas usualmente asociados a las aminas de bajo peso molecular, se plantea como alternativa el uso de silsesquioxanos conteniendo grupos aminos terciarios, dado que por su elevado peso molecular, los mismos no presentan olor ni toxicidad y su tendencia a la migració...
La fotopolimerización por radicales libres requiere la presencia de una amina terciaria que actúa como agente reductor y suprime la inhibición por oxígeno de la reacción. Para evitar los problemas usualmente asociados a las aminas de bajo peso molecular, se plantea como alternativa el uso de silsesquioxanos conteniendo grupos aminos terciarios, dado que por su elevado peso molecular, los mismos no presentan olor ni toxicidad y su tendencia a la migración se reduce notablemente. Se estudió la reacción de fotopolimerización de una resina metacrilato usando un 1% en peso de camforquinona y cantidades variables de un silsesquioxano con grupos amino aromáticos terciarios como sistema iniciador. Se obtuvieron buenos grados de conversión (entre 0,55 y 0,7) utilizando pequeñas cantidades de silsesquioxano (entre 1 y 10%). Este grado de conversión puede incrementarse notablemente elevando la temperatura a la cual se efectúa la fotopolimerización. Los materiales finales mostraron un excelente fotoblanqueo y buenas propiedades mecánicas que podrían hacerlos útiles para varias aplicaciones, por ejemplo en el uso odontológico.
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Key Words
FOTOPOLIMERIZACIONSILSESQUIOXANOSMETACRILATO